该用户匿名发帖 发表于 2011-1-14 17:06 全显示 1楼 |
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[图帖] 深入探访英特尔美光25nm工艺晶圆厂(图文)[17P] 晶圆
由于其形状为圆形,故称为晶圆; 而成为有特定电性功能之IC产品。
位于雪山脚下的 IMFT 工厂 位于美国犹太州的25nm NAND闪存晶圆厂,该晶圆厂虽然和其他晶圆厂的内部结构和生产流程几乎一样,但是它却采用最新的25nm沉浸式光刻技术在300mm晶圆上生产更大容量更小体积的NAND闪存。下面让我们一起随着去感受IMFT 25nm闪存制造的过程。
工厂结构是制造半导体产品最关键的无尘室位于第三层,加压吊顶形成由上向下的气流,设备维护工作则在二层的“SubFab”层完成。进入无尘室之前的“打包”过程。
晶圆厂内走廊,顶端的自动运输系统(AMHS)正在以每小时13公里的速度将晶圆在各个制造环节间运输,24小时不停歇。每个运载器都打在了一个FOUP(前端开口片盒),其中可装载最多25片300mm晶圆。
厂内地面全部打孔,保证空气从上向下流通,将落尘可能减到最小。
FOUP片盒挂接在一个制造阶段设备上,后面的那个正在被AMHS吊起。
几乎所有制造过程均为自动完成,因此厂内大部分工人的工作就是保证这些设备正常运行。
化学机械抛光(CMP)车间
300mm 晶圆
PCper 记者手持一片 25nm工艺300mm 晶圆,总容量超过2TB。
照明受限的光刻车间。
一块光刻掩膜,光刻过程简单的说就是将这块掩膜上图案“缩印”到晶圆上。
光刻过程中的“校准”。
实时缺陷监测(RDA)。
FOUP片盒中的 300mm 晶圆 。
英特尔 晶圆
尺寸对比。
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